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          光刻機原理,通俗易懂理解光刻機作用

          來源:互聯網企業網站、知乎問答 發布時間:2019-09-03 13:58

          一、光刻機是干嘛的现金游戏赌钱?
          光刻機就是個“投影儀”,把我們想要的影子投影到幕布上。芯片那么精細现金游戏赌钱,是怎么生產出來的呢?用刀刻现金游戏赌钱?用水沖现金游戏赌钱?都不行,因為芯片太精細了现金游戏赌钱现金游戏赌钱,動輒幾十nm的線條,日常沒有什么材料能做成這么精細的刻刀现金游戏赌钱。所以我們就想了一個辦法,用光線來刻,這也就是光刻機。怎么個用光刻法呢现金游戏赌钱?我們都用過膠卷相機吧现金游戏赌钱现金游戏赌钱,膠片平日里是黑色的,不能見光的现金游戏赌钱,一旦見光就會變白,我們也找了一種一見光就“易溶解”的特殊膠片。當我們想要在芯片上刻一個圓圈的時候,我們就在芯片上涂上這種特殊膠片,拿一個圓圈光照上去,再經過一些列后續處理现金游戏赌钱,我們在這個芯片上就做出了一個圓圈圖形了對吧。光刻機就是用這種膠片來刻出圖形的。剩下的問題是,我們怎么把一種我們想要的特定圖形打到膠片上呢?我們見過老式投影儀吧现金游戏赌钱,原理跟皮影戲是一樣的现金游戏赌钱,做一個“剪紙”现金游戏赌钱,拿燈光一照现金游戏赌钱,這個剪紙就映在幕布上了。我們也想辦法在光刻機里做了這樣的“剪紙”,拿光源一照,這個剪紙就映在膠片上了。以上就是光刻機的通俗理解。

          知乎網友现金游戏赌钱,作者:晚飯,大家怎么看這個解釋?

          二现金游戏赌钱、光刻機原理

          光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.

          一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘现金游戏赌钱、對準曝光现金游戏赌钱、后烘现金游戏赌钱、顯影、硬烘现金游戏赌钱现金游戏赌钱、刻蝕等工序。
          Photolithography(光刻) 意思是用光來制作一個圖形。

          在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

          下面,簡單介紹一下圖中各設備的作用。

          1、測量臺现金游戏赌钱、曝光臺:承載硅片的工作臺现金游戏赌钱现金游戏赌钱,也就是本次所說的雙工作臺。

          2现金游戏赌钱、光束矯正器:矯正光束入射方向,讓激光束盡量平行现金游戏赌钱。

          3现金游戏赌钱、能量控制器:控制最終照射到硅片上的能量,曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。

          4现金游戏赌钱、光束形狀設置:設置光束為圓型、環型等不同形狀,不同的光束狀態有不同的光學特性现金游戏赌钱。

          5、遮光器:在不需要曝光的時候,阻止光束照射到硅片现金游戏赌钱。

          6现金游戏赌钱、能量探測器:檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求,并反饋給能量控制器進行調整。

          7、掩模版:一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板现金游戏赌钱,貴的要數十萬美元现金游戏赌钱。

          8现金游戏赌钱、掩膜臺:承載掩模版運動的設備,運動控制精度是nm級的现金游戏赌钱。

          9、物鏡:物鏡由20多塊鏡片組成现金游戏赌钱,主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小现金游戏赌钱,再被激光映射的硅片上,并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術難度就在于物鏡的設計難度大,精度的要求高现金游戏赌钱。

          10、硅片:用硅晶制成的圓片现金游戏赌钱。硅片有多種尺寸现金游戏赌钱,尺寸越大现金游戏赌钱,產率越高。題外話,由于硅片是圓的,所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系,根據缺口的形狀不同分為兩種现金游戏赌钱,分別叫flat现金游戏赌钱、notch。

          11、內部封閉框架现金游戏赌钱、減振器:將工作臺與外部環境隔離,保持水平现金游戏赌钱,減少外界振動干擾,并維持穩定的溫度、壓力现金游戏赌钱现金游戏赌钱。

          三、認清光刻機性能指標
          1、光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度现金游戏赌钱现金游戏赌钱、曝光方式、光源波長现金游戏赌钱、光強均勻性、生產效率等。

          2、分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制现金游戏赌钱现金游戏赌钱,所以與光源、光刻系統现金游戏赌钱、光刻膠和工藝等各方面的限制。

          3、對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

          4现金游戏赌钱、曝光方式分為接觸接近式现金游戏赌钱、投影式和直寫式。

          5、曝光光源波長分為紫外现金游戏赌钱、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等现金游戏赌钱。

          四、光刻機作用

          光刻機是微電子整備的空頭,其具有技術難度最高现金游戏赌钱、單臺成本最大现金游戏赌钱、決定集成密度等特點现金游戏赌钱。

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