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          C-31型(4英寸)高精度雙面光刻機

          高精度雙面光刻機

          C-31型(4英寸)高精度雙面光刻機實景圖

          主要用途

          主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。

          工作方式

          本機采用版—版對準雙面同時曝光

          主要構成

          主要由高精度特制的翻版機構、雙視場CCD顯微顯示系統、多點光源曝光頭、真空管路系統、氣路系統、直聯式無油真空泵、防震工作臺等組成。

           主要功能特點

          1.適用范圍廣

          適用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片的對準曝光。

          2.結構先進

          該機為雙面接觸式光刻機,特制的翻版機構,能消除基片楔形誤差,保證上、下二塊掩膜版對基片上、下兩面良好的接觸,從而保證基片上、下兩面的曝光質量。

          3.操作簡便

          采用手動方式,特制的翻版機構

          4.可靠性高

          采用進口電磁閥、按鈕、定時器;真空管路系統和精密的零件加工,使本機具有非常高的可靠性。

          主要技術指標

          *曝光類型:單面對準雙面曝光

          *曝光面積:≥φ100mm

          *曝光不均勻性:≤±4%

          *曝光強度:≥5mw

          *曝光分辨率:≤1.5μm

          *曝光模式:雙面同時曝光

          *對準精度:上版與下版的對準精度≤5μm

          *對準范圍:X.±5mm Y.±5mm

          *旋轉范圍:Q向旋轉調節≥±5°

          *顯微系統:雙視場CCD系統,物鏡0.7X~4.5X,計算機圖像處理系統,19″液晶監視器

          *掩模版尺寸:3×3(英寸)、4×4(英寸)、5×5(英寸)

          *基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″

          *基片厚度:≤5 mm

          *曝光燈功率:直流2×350W

          *曝光定時:0~999.9秒可調

          *電源:單相AC 220V 50Hz功耗≤1kW

          *潔凈壓縮空氣壓力:≥0.4Mpa

          *真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa

          *尺寸:900×700×1500 (L×W×H)mm;

          *重量:~150kg

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