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          C-43A型(9英寸)高精度單面光刻機

          高精度單面光刻機

          C-43A型(9英寸)高精度單面光刻機實景圖

           主要用途

              主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產。

          工作方式

               本機為一次性光刻曝光

          主要技術指標:

          1、配置兩件承片臺承片臺具體尺寸可根據用戶需求制造

          2、曝光頭采用高均勻性多點光源曝光頭

          *出射光斑≤230mm;350W(高壓直流汞燈

          *光的不均勻性在φ230mm范圍內≤±8%;

          *實現真空密著條件下曝光。

          *光的強度可通過可變光欄大小進行調節,曝光時間,通過0.1~999.9秒時間繼電器設定;

          *汞燈位置調節可通過精密的x、y、z調節裝置調節,調節量為x±5毫米、y±5毫米、z±5毫米;

          *具有風扇冷卻裝置。

          3、分辨率≥20μm 。

          4、具備真空吸片功能。

          5、具有真空密著和反吹氣的功能,通過調節密著真空的大小可以實現硬接觸曝光密著真空≤-0.05 Mpa)、軟接觸曝光(密著真空在-0.05Mpa~-0.02Mpa之間)和微力接觸曝光密著真空≥-0.02Mpa)。

          主要配置:

          *多點曝光頭:1

          *曝光類型一次性曝光

          *曝光面積:≥φ230mm

          *曝光不均勻性:≤±8%

          *曝光強度:≥5mw

          *曝光分辨率:≤20μm

          *曝光模式單面曝光

          *基片尺寸:φ2″、φ3″、φ4″φ5″、φ6″、φ7″φ8″、φ9″

          *基片厚度:≤5 mm

          *曝光燈功率:350W

          *曝光定時:0~999.9秒可調

          *電源單相AC 220V 50Hz功耗≤1kW

          *潔凈壓縮空氣壓力:≥0.4Mpa

          *真空度:-0.07Mpa~-0.09Mpa

          *尺寸:700×650×1200 (L×W×H)mm;

          *重量:~110kg

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